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2013年6月25日 (火)

希少金属セリウム使用量を半減する「研磨パッド」の開発に成功

2013年6月17日
新エネルギー・産業技術総合開発機構
 
詳細は、リンクを参照して下さい。
 
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 NEDOと立命館大学、(株)クリスタル光学
は、ガラス基板用研磨材に用いられる
希少金属セリウムの使用量を半減できる
研磨パッドの開発に成功しました。
 
 今回開発した研磨パッドは、フラット
パネルディスプレイやハードディスク
ドライブ等のガラス基板用最終研磨に
用いられるもので、ベースである
ウレタン樹脂に新たにエポキシ樹脂を
添加することで、研磨能率を従来の
約2倍に高めることに成功しました。
 
 この技術により、従来の半分の時間での
研磨が可能となり、研磨材に用いられる
希少金属セリウムの使用量を半減すること
ができます。
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 良さそうです。
 
>今回開発された研磨パッドは、既に
>試作・評価まで終了しており、1年以内
>の上市を目指して製造技術の検討を
>行っています。
 
>なお本成果は、8月27日から29日に
>行われる2013年度砥粒加工学会
>学術講演会にて発表する予定です。
 とのこと。
 
 「希少金属セリウム使用量を半減する」
というのが素晴らしい。

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