希少金属セリウム使用量を半減する「研磨パッド」の開発に成功

希少金属セリウム使用量を半減する

「研磨パッド」の開発に成功

2013年6月17日

新エネルギー・産業技術総合開発機構

詳細は、リンクを参照して下さい。

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　NEDOと立命館大学、(株)クリスタル光学

は、ガラス基板用研磨材に用いられる

希少金属セリウムの使用量を半減できる

研磨パッドの開発に成功しました。

　今回開発した研磨パッドは、フラット

パネルディスプレイやハードディスク

ドライブ等のガラス基板用最終研磨に

用いられるもので、ベースである

ウレタン樹脂に新たにエポキシ樹脂を

添加することで、研磨能率を従来の

約2倍に高めることに成功しました。

　この技術により、従来の半分の時間での

研磨が可能となり、研磨材に用いられる

希少金属セリウムの使用量を半減すること

ができます。

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　良さそうです。

＞今回開発された研磨パッドは、既に

＞試作・評価まで終了しており、1年以内

＞の上市を目指して製造技術の検討を

＞行っています。

＞なお本成果は、8月27日から29日に

＞行われる2013年度砥粒加工学会

＞学術講演会にて発表する予定です。

　とのこと。

　「希少金属セリウム使用量を半減する」

というのが素晴らしい。