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2012年11月 2日 (金)

液体を強くはじく表面に半導体を塗布する新しい製膜技術

- 有機ポリマートランジスタの高性能化
を実現 -
平成24年10月31日
独立行政法人産業技術総合研究所
大学共同利用機関法人
高エネルギー加速器研究機構
独立行政法人科学技術振興機構
 
詳細は、リンクを参照して下さい。
 
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 独立行政法人 産業技術総合研究所
【理事長 野間口 有】
(以下「産総研」という)
 フレキシブルエレクトロニクス研究
センター【研究センター長 鎌田 俊英】
長谷川 達生 副研究センター長、
フレキシブル有機半導体チーム
山田 寿一 主任研究員と、
電子光技術研究部門
【研究部門長 原市 聡】は、液体を強く
はじく高はっ水性表面に
有機ポリマー半導体注1)溶液を塗布し、
材料のロスなく均質に薄膜化する技術を
開発した。
 
 この塗布技術によって、電子ペーパー
注2)などの情報端末機器に不可欠の
高性能な薄膜トランジスタ(TFT)
注3)を、従来法よりも著しく簡便に製造
できる。
 
 半導体薄膜をはっ水性の高い
ゲート絶縁膜注4)表面に形成して
TFTを作製すると、TFT性能の安定性
が向上するが、従来の塗布法では表面が
液体を強くはじくため製膜が困難で
あった。
 
 今回、有機ポリマー半導体を溶解させた
溶液を3層構造のシリコーン注5)
ゴムスタンプで圧着し、溶液をはっ水性の
高い表面全体に均一に濡れ広がらせること
によって製膜する新技術
(プッシュコート法)を開発した。
 
 この技術により、はっ水性の極めて高い
表面に、均質性と結晶性に優れた
半導体薄膜を得ることができるとともに、
従来の塗布法と異なり、材料の無駄を
ほぼゼロに抑えることができる。
 
 この半導体薄膜の結晶性の改善は、
大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器
研究機構【機構長 鈴木 厚人】
(以下「KEK」という)の放射光施設を
用いて確認した。
 
 今回開発した新技術は、フレキシブル
デバイスの研究開発を大きく加速する
とともに、液体がなじみにくい表面への
新しい塗布製膜技術として、さまざまな
材料の薄膜化技術への応用が期待される。
 
 この成果の詳細は、英国の学術誌
「Nature
Communications」に
オンライン掲載される。
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 この方法の利点は、
>高性能な薄膜トランジスタ(TFT)
>を、従来法よりも著しく簡便に製造
>できる。
ということと、
 
>従来の塗布法と異なり、材料の無駄を
>ほぼゼロに抑えることができる。
ということでしょうか?
 
 良さそうですね。

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